眾律國際法律事務所  專利師林昱礽

2012-05-10

 

再審查簡介

美國專利的再審查程序有二種：一是單方再審查（Ex Parte Reexamination）；一是多方再審查（Inter Partes Reexamination。美國專利改革法案以多方審視程序（Inter Partes Reviewing Proceeding）取代目前之多方再審查，預計於2012/9/16生效）。單方再審查任何人均可申請，且可匿名，總費用約一至二萬美元；多方再審查限專利權人及其關係人（Patentee Owner and Its Privies）以外之第三人申請，不可匿名，且審查標的限申請日為1999/11/29當日或之後的美國專利，總費用約五到二十萬美元。二種再審查程序之要件整理如下：

 

美國專利單方與多方再審查要件表

 

＊ 可專利性實質新問題：SNQ（Substantial New Question of Patentability）

＊ 專利上訴暨衝突復審委員會：BPAI（Board of Patent Appeals and Interferences）

＊ 聯邦巡迴上訴法院：CAFC（Court of Appeals for the Federal Circuit）

 

單方再審查與多方再審查的主要差異在於申請人的參與程度。對單方再審查而言，專利權人可於申請日起二個月內向CRU提交陳述書，除可說明可專利性之理由，亦可修改請求項，而申請人於收到該份陳述書影本後二個月內可以提交意見，這是申請人於單方再審查程序開始後唯一的說明機會，有些律師會因此建議專利權人不要提交陳述書。倘單方再審查結果對專利權人不利，專利權人可以向BPAI及CAFC提出上訴。若專利權人於審查過程中曾以陳述書或答辯書針對SNQ存在與否向CRU提出不同意見，亦可以此為個別上訴之基礎。至於申請人於單方再審查中是沒有任何上訴機會的。

 

對多方再審查而言，申請人與專利權人有大致對等的參與機會。按規定，CRU需將其中一造所提出之文件之影本提供予對造，當申請人收到專利權人針對官方通知所提出之答辯書的影本後，30天內可以提交書面意見。倘多方再審查結果對可專利性不利，專利權人可向BPAI及CAFC上訴；反之，申請人也可向BPAI及CAFC上訴。

 

單方再審查與多方再審查的其它主要不同點還包括：

（1）多方再審查申請人不可匿名，且需載明關係人。單方再審查無此限制；

（2）多方再審查申請人及其關係人於當前的多方再審查結束前，未經CRU主管同意，不得針對系爭專利提出另一多方再審查。單方再審查無此限制；

（3）多方再審查申請人及其關係人不得就先前審定之多方再審查或審結之專利訴訟中已提出或可得提出之資訊再次申請多方再審查。單方再審查無此限制；

（4）多方再審查不得申請面談。單方再審查於第一次官方通知後，專利權人可申請面談；以及

（5）對於經由一多方再審查確認有效之請求項，該多方再審查之申請人不得依據先前審查過程中已提出或可得提出之資訊來提起專利有效性訴訟。

 

另外，可專利性實質新問題（SNQ）是每件再審查請求案的基礎，無論是單方或多方再審查，都必須至少有一個請求項具有SNQ，才有繼續審查的機會。為了要證明有SNQ，申請人需利用專利或公開文件來證明有一個新的、非累積（New and Non-cumulative）的先前技術存在，該先前技術必須是在系爭專利的專利申請過程中未曾被考慮過的，以及在先前的再審查過程中未曾被提出來的。在此需留意的是，其它專利有效性問題例如申請前已公開銷售或公開使用等均無法作為再審查的依據，即便該些問題在訴訟審理時是納入考量的。

（待續）

 

註1：35 U.S.C. 301~307; 37 C.F.R. 1.501~1.570; MPEP 2200

註2：35 U.S.C. 311~318; 37 C.F.R. 1.902~1.997; MPEP 2600

註3：37 C.F.R. 1.181~1.183; 37 C.F.R. 1.515, 1.927; MPEP 1002, 2248, 2646

註4：Federal Register / Vol. 75, No. 122 / Friday, June 25, 2010 / Notices, Docket No. PTO–P–2010–0049